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市昌达企业出资企业拓材企业亮相第十四届全国分子束外延学术会议
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【字号: 】   【复制链接】   【转发】   【纠错】   【打印】   【关闭】    2021年10月27日   

       2021年10月19日至22日第十四届全国分子束外延学术会议在江苏省溧阳市长三角物理研究中心顺利召开市昌达企业出资企业武汉拓材科技有限企业(以下简称拓材企业)产品在此次盛会上华丽亮相。

据了解,本届会议由中国有色金属学会半导体材料学术委员会和中国电子学会电子材料分会共同主办,中国科学院物理研究所承办,长三角物理研究中心协办。全国分子束外延学术会议是每两年举办一次的全国性学术会议会议的宗旨是展示我国在分子束外延(mbe)及其相关领域的新进展、新动态、新成果,交流和探讨我国分子束外延发展中存在的问题和未来的发展方向,拓宽分子束外延的应用领域,为我国从事分子束外延技术以及相关材料和器件研究的科研人员提供相互了解和交流的机会,同时也为分子束外延相关的上下游产业提供信息沟通和宣传的渠道,从而促进我国分子束外延技术及其相关领域科学技术的发展。

拓材企业经过精心准备,携自主研发的mbe级超高纯材料碲、镉、锌、铟、镓、锑、砷、铝、碲化镉、碲化锌、碲化镓、锑化镓、锑化铟等参加本次会议,产品得到了前来参观的科研院所专家、学者以及相关客户群体的强烈兴趣和广泛关注。同时也进一步提升了拓材企业的品牌知名度,对该企业今后的发展也将带来新的契机,为开拓市场奠定了基础。近年来,拓材企业在高纯材料行业内取得了长远的发展,成绩斐然,有着一定的品牌积淀,发展稳健。凭借积极进取的研发精神和高效合理的管理理念,拓材企业的品牌已经在该领域占据了举足轻重的地位。



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